Plasma söövitusmasina struktuur

ICP-seadmed koosnevad peamiselt neljast osast: eel-vaakumkamber, söövituskamber, gaasivarustussüsteem ja vaakumsüsteem.

(1) Eelvaakumkamber-

Eel{0}}vaakumkambri funktsioon on tagada, et söövituskambris hoitakse kindlaksmääratud vaakumitaset, et väliskeskkond (nt tolm, veeaur) ei mõjutaks seda ning eraldaks puhtast ruumist ohtlikud gaasid. See koosneb kattest, manipulaatorist, ülekandemehhanismist, isolatsiooniuksest jne.

(2) Söövituskamber

Söövituskamber on ICP söövitusseadmete põhistruktuur. Sellel on otsene mõju söövituskiirusele, söövituse vertikaalsusele ja karedusele. Söövituskambri põhikomponendid on: ülemine elektrood, ICP raadiosagedusseade, RF raadiosagedusseade, alumine elektroodide süsteem, temperatuuri reguleerimise süsteem jne.

(3) Gaasivarustussüsteem

Gaasivarustussüsteem peab söövituskambrisse tarnima erinevaid söövitusgaase ning täpselt reguleerima gaasi voolukiirust ja voolu läbi rõhuregulaatori (PC) ja massivooluregulaatori (MFC). Gaasivarustussüsteem koosneb gaasiallika balloonist, gaasi etteandetorustikust, juhtimissüsteemist, segamissõlmest jne.

(4) Vaakumsüsteem
Vaakumsüsteemi on kaks, üks eelvaakumkambri jaoks-ja teine ​​söövituskambri jaoks. Eelvaakumkamber tühjendatakse mehaanilise pumba abil. Ainult siis, kui vaakumi tase eelvaakumkambris saavutab-määratud väärtuse, saab vahvli teisaldamiseks avada isolatsiooniluugi. Söövituskambri vaakumi tagavad mehaaniline pump ja molekulaarpump. Söövituskambris toimuva reaktsiooni käigus tekkivad gaasid eemaldatakse samuti vaakumsüsteemiga.